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金属靶材

溅射靶材主要用于真空镀膜设备中，通过物理气相沉积（PVD）在基片上涂覆薄膜层，以增加新的功能或创建微小的连接，如薄膜晶体管（TFT）。用于制备溅射靶材的材料种类繁多，主要取决于最终的用途，因此既可以由纯金属制成，也可以由非常复杂的合金材料制成。我们可以为各行业客户提供不同材料所制成的平面靶材和旋转靶材，我们的制备技术先进，保证产品达到最佳的使用性能。

先导电科产品手册

溅射靶材产品列表

铝靶 (Al)

应用：半导体、TFT-LCD、装饰等领域镀膜

元素符号 : Al
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶; 旋转靶
外观 : 银色金属
典型密度 : 2.67g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: D500mm
旋转靶: L4000mm
其它尺寸可定制

铝钪靶 (AlSc)

应用：半导体行业集成电路和微型电机器件镀膜

元素符号 : AlSc
合金成分 : Al 9.6at%Sc; Al 20at%Sc; Al 30at%Sc
其它成分可定制
纯度 : 3N5+
形状 : 平面靶
外观 : 银白色、灰色，随合金成分不同而变化
典型密度 : >2.92g/cm³
常规尺寸 : Φ332mm
其它尺寸可定制

铍铜靶 (BeCu)

应用：各种屏蔽室、集成电路屏蔽层和装饰镀膜

元素符号 : BeCu
纯度 : 2N5+
形状 : 平面靶、旋转靶
外观 : 金黄色金属
典型密度 : 8.6g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 500x500x10mm
旋转靶: L4000mm
其它尺寸可定制

掺碳锗锑碲靶 (C-GST)

应用：相变存储材料

元素符号 : C-GST
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶
外观 : 灰色
典型密度 : 5.7g/cm³
常规尺寸 : Φ440mm
其它尺寸可定制

铜铟镓靶 (CIG)

应用：铜铟镓硒薄膜太阳能电池
铜铟镓靶材通过引入硒源，用于制备铜铟镓硒薄膜太阳能电池中的P-type铜铟镓硒膜层。

元素符号 : CIG
合金成分 : Cu35.78wt% In49.95wt% Ga14.27wt%
其它成分可定制
纯度 : 4N5+
形状 : 平面靶；旋转靶
外观 : 灰色
典型密度 : 7.5g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 350×125mm
旋转靶: L1300mm
其它尺寸可定制

钴钽锆靶 (CoTaZr)

应用：半导体集成电路和微电感器

元素符号 : CoTaZr
合金成分 : Co4.5Ta4Zr
其它成分可定制
纯度 : 3N5+
形状 : 平面靶
外观 : 银灰色
典型密度 : 8.68g/cm³
常规尺寸 : 方形: 600mm*130mm*12mm
圆形: Φ440mm
其它尺寸可定制

铬靶 (Cr)

应用：半导体、低辐射玻璃、装饰和功能性膜层等领域的真空镀膜

元素符号 : Cr
纯度 : 3N5+
形状 : 平面靶; 旋转靶
外观 : 银色金属
典型密度 : 7.2g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 500x125mm
旋转靶: L1500mm
其它尺寸可定制

铬钴靶 (CrCo)

应用：磁数据存储

元素符号 : CrCo
合金成分 : Cr90at%Co
其他成分可定制
纯度 : 3N5+
形状 : 平面靶
外观 : 灰色
典型密度 : >8.2g/cm³
常规尺寸 : Φ165mm
其它尺寸可定制

铜靶 (Cu)

应用：触摸屏、半导体、传感器、电路器件和装饰品等行业的器件镀膜

元素符号 : Cu
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶; 旋转靶
外观 : 红铜色金属
典型密度 : 8.57g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: D500mm
旋转靶: L4000mm
其它尺寸可定制

铜镓靶 (CuGa)

应用：铜铟镓硒薄膜太阳能电池

元素符号 : CuGa
合金成分 : CuGa25, CuGa27, CuGa30
其它成分可定制
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶；旋转靶
外观 : 金黄色或银白色
典型密度 : >8.4g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: Φ500x30mm
旋转靶: L3000mm
其它尺寸可定制

铟靶 (In)

应用：光伏、半导体、低辐射玻璃等领域镀膜

元素符号 : In
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶; 旋转靶
外观 : 银白色金属
典型密度 : ≥6.9g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 2400x500x30mm
旋转靶: L3000mm
其它尺寸可定制

铟锡靶 (InSn)

应用：光伏、低辐射玻璃和手机器件涂层

元素符号 : InSn
合金成分 : 90/10; 80/20 wt%
其它成分可定制
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶；旋转靶
外观 : 银白色
典型密度 : 7.26g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 2400x500x30mm
旋转靶: L3000mm
其它尺寸可定制

铌靶 (Nb)

应用：触摸屏、半导体、低辐射玻璃和AR涂层等

元素符号 : Nb
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶；旋转靶
外观 : 深灰色金属
典型密度 : 8.57g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 2400x500x30mm
旋转靶: L1500mm
其它尺寸可定制

镍靶 (Ni)

应用：磁存储介质、半导体、LED等行业器件镀膜

元素符号 : Ni
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶；旋转靶
外观 : 银色金属
典型密度 : 8.94g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 2400x500x30mm
旋转靶: L3000mm
其它尺寸可定制

硅靶 (Si)

应用：光学、光电子、半导体、触摸屏等领域器件镀膜

元素符号 : Si
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶；旋转靶
外观 : 深灰色，半金属
典型密度 : 2.32g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 500x500x30mm
旋转靶: L4000mm
其它尺寸可定制

硅铝靶 (SiAl)

应用：低辐射玻璃和AR涂层

元素符号 : SiAl
合金成分 : 98/2; 90/10; 25/75 wt%
其它成分可定制
纯度 : 3N+
形状 : 平面靶
外观 : 银白色
典型密度 : 随合金成分而定
常规尺寸 : 平面靶: D500mm
旋转靶: L4000mm
其它尺寸可定制

锡靶 (Sn)

应用：低辐射玻璃和手机器件镀膜

元素符号 : Sn
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶；旋转靶
外观 : 银色金属
典型密度 : 7.28g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 2180x500x30mm
旋转靶: L3000mm
其它尺寸可定制

钽靶 (Ta)

应用：半导体、光学、磁性存储介质以及耐磨、耐腐蚀器件等领域的镀膜

元素符号 : Ta
纯度 : 3N5+
形状 : 平面靶；旋转靶
外观 : 深灰色金属
典型密度 : 16.54g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 500x500x30mm
旋转靶: L4000mm
其它尺寸可定制

钛靶 (Ti)

应用：半导体、显示、光伏、低辐射玻璃、耐磨和装饰器件的镀膜

元素符号 : Ti
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶；旋转靶
外观 : 银色金属
典型密度 : 4.5g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 2000x500x30mm
旋转靶: L4000mm
其它尺寸可定制

钒靶 (V)

应用：红外芯片

元素符号 : V
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶; 旋转靶
外观 : 银灰色金属
典型密度 : 6.110 g/cm³
常规尺寸 : 尺寸和规格可定制

钨钛靶 (WTi)

应用：光学、光电子学、半导体、LED等领域镀膜

元素符号 : WTi
合金成分 : 90/10 wt% 70/30 wt%
其它成分可定制
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶
外观 : 银灰色带金属光泽
典型密度 : 14.52g/cm³
常规尺寸 : 方形平面靶: L400mm
圆形平面靶: Φ440mm
其它尺寸可定制

锆钇靶 (ZrY)

应用：热障涂层

元素符号 : ZrY
合金成分 : Y:10 wt%/15wt%/20wt%
其它成分可定制
纯度 : 3N+
形状 : 平面靶
外观 : 银灰色
典型密度 : 6.09g/cm³
常规尺寸 : 325mm*200mm*10mm
其它尺寸可根据客户要求定制

银靶 (Ag)

应用：半导体、低辐射玻璃、光伏和光学等行业镀膜

元素符号 : Ag
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶；旋转靶
外观 : 银色金属
典型密度 : 10.5g/cm³
常规尺寸 : 平面靶: 2300×248mm
旋转靶: L3000mm
其它尺寸可定制

金靶 (Au)

应用：半导体、传感器和数据存储器件镀膜

元素符号 : Au
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶
外观 : 金黄色
典型密度 : 19.32g/cm3
常规尺寸 : Φ332mm
其它尺寸可定制

镍铂靶 (NiPt)

应用：半导体行业中的二极管和超大规模集成电路镀膜

元素符号 : NiPt
合金成分 : 95/5, 90/10, 85/15, 70/30, 40/60 wt%;
其它成分可定制
纯度 : 4N+
形状 : 平面靶；碗状靶
外观 : 银白色
典型密度 : 随合金成分不同而变化
常规尺寸 : 445x127
其它尺寸可定制