电子科技事业部致力于真空镀膜材料和真空镀膜设备的研发、生产、销售和回收。材料产品系列包括高纯金属、合金、贵金属及陶瓷材料所制成的靶材、锭、颗粒及粉末，被广泛应用于显示、光伏、半导体、精密光学、数据存储及特种玻璃等领域。我们在广东清远、安徽合肥、江苏徐州、山东淄博、云南昆明、韩国、美国、德国、新加坡等地均有研发制造基地。
我们专注于为全球显示行业客户提供高品质、高性能的ITO和IGZO靶材，同时还提供钼靶（Mo）、铝靶（Al）、铜靶（Cu）、钛靶（Ti）等高质量的配套金属靶材，可应用于LCD、触摸传感器、笔记本电脑电磁干扰涂层、手机后盖渐变、可穿戴设备硬质涂层等。
我们生产可用于太阳能电池的全系列高质量PVD溅射靶材和蒸发材料， 我们的碲化镉靶材（CdTe）、氧化铟锡靶材（ITO）、铜铟镓硒靶材（CIGS）在全球光伏行业具有很高的知名度，同时也提供硒化镉（CdSe）、碲锌镉（CdZnTe）、硫化镉（CdS）等其他配套靶材和铜（Cu）、铟（In）、镓（Ga）、硒（Se）和碲（Te）等高纯蒸发材料。
用于集成电路的溅射靶材是一种被广泛运用于半导体芯片制造不可或缺的材料，可用于前段的制程例如制造源极元件、栅极、金属层及金属互联等，以及后段键合。我们自主回收和加工原材料， 通过成熟的提纯、熔化、铸造、锻轧和绑定等工艺，直接控制有可能对PVD工艺产生影响的因素，确保材料纯度、晶粒尺寸、均匀性等符合PVD工艺的要求。
物理气相沉积（PVD）蒸发镀膜一直是光学镀膜的主流技术。 随着用于医疗、国防和商业用途的光学滤光片涂层要求越来越高，转为倾向于使用光学监控溅射沉积技术。我们自主回收和加工原材料， 通过成熟的提纯、熔化、铸造、锻轧和绑定等工艺，直接控制有可能对PVD工艺产生影响的因素，确保材料纯度、晶粒尺寸、均匀性等符合PVD工艺的要求。
LED产业已经发展非常成熟，制造商致力于寻求创新的解决方案，以提高性能并降低成本，从而实现新的应用领域。我司具有独特的优势来支持这项技术的革新。我们为LED芯片企业提供正负电极所需要的高品质成膜材料，包括高纯金属蒸发颗粒和溅射靶材（铝（Al）、钛（Ti）、镍（Ni）、银（Ag）、金（Au）、铂（Pt）、钨（W）、钨钛（WTi），以及用于增透扩散层透明导电材料（ITO、IWO 等）。
磁数据存储是一种便携式存储介质，可提供计算机内部和外部的存储接口。
我司2018年收购Hereaus在新加坡的部分业务，目前已开发并提供了应用于MDS的高度先进材料解决方案。
作为磁控数据存储行业的主要供应商，我司提供溅射靶和蒸发材料。作为先进材料解决方案供应商，我们拥有广泛的专业知识，涵盖冶金和生产技术领域。我们为各种磁数据存储应用提供广泛的目标材料，包括各类贵金属（铂、铂合金、铂氧化物、钌、钌合金、钌氧化物）及非贵金属合金。
相关产品：溅射靶材
电致变色玻璃， 通过在玻璃基板上沉积ITO、氧化物和相变材料，可以根据环境条件调整光线的透过率，实现对玻璃的智能化控制， 可应用于汽车玻璃等。我们可为玻璃行业客户提供镀膜用高品质溅射靶材，如ITO靶、银靶、硅铝靶、铟锡靶、钌靶、铬靶、钼靶等。
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