·电子特气 - 先导科技集团官网

有疑问？
专业技术顾问为您解答

咨询热线

020-37069188

商务合作

Sales@vitalchem.com

更多联系方式

电子特气

电子特气用于半导体加工制造，例如薄膜沉积 - 包括化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。我们提供高品质的电子气体，应用于LED制造，光伏太阳能，光纤和微电子器件。

砷烷

砷烷应用于泛半导体行业，作为外延硅的N型掺杂、扩散、离子注入、生长砷化镓（GaAs）等化合物半导体的关键电子特气。

砷烷-CN

砷烷-EN

展开更多折叠内容

磷烷

磷烷是一种易燃的剧毒气体。用于半导体材料制备；衬底/外延、离子注入和掺杂；用于有机合成，制备磷的有机化合物等。

磷烷-CN

磷烷-EN

展开更多折叠内容

硒化氢

硒化氢是一种可燃的有毒气体。用于泛半导体行业；是制作红外材料（硒化锌等）的关键原料。

硒化氢-CN

硒化氢-EN

展开更多折叠内容

锗烷

锗烷是一种可燃的有毒气体。制取高纯度锗；应用于泛半导体掺杂及金属有机化合物气相沉积（MOCVD）镀膜工艺；是太阳能电池的重要原料电子特气。

锗烷混气-CN

锗烷混气-EN

展开更多折叠内容

乙硼烷

乙硼烷是一种可燃的有毒气体。用作制取高纯度硼；是半导体行业的掺杂、外延生长、扩散和离子注入等的关键特气原料；应用于火箭和导弹的高能燃料、制药、金属焊接和有机合成等领域。

乙硼烷-CN

乙硼烷-EN

展开更多折叠内容

甲硅烷

甲硅烷是一种可燃的有毒气体。硅产业链中的应用最广泛关键产品之一，用作多晶硅/单晶硅制备，硅基薄膜沉积；广泛应用于泛半导体行业。

甲硅烷-CN

甲硅烷-EN

展开更多折叠内容

三氟化氮

三氟化氮是一种可燃的有毒气体。作为高温室效应的氟化电子特气，广泛应用于电子行业的干法刻蚀，晶圆表面清洗，工艺腔室刻蚀清洁；是目前光伏/显示/半导体制造中最重要的特气之一。

三氟化氮-CN

三氟化氮-EN

展开更多折叠内容

三氯化硼

三氯化硼是一种可燃的有毒气体。应用于泛半导体行业，是刻蚀、清洗和掺杂等工艺关键电子特气；三氯化硼还广泛用于有机合成和催化反应。

三氯化硼-CN

三氯化硼-EN

展开更多折叠内容

四氯硅烷

制取高纯硅、硅酸乙酯等；外延硅蚀刻气；制备熔融石英纤维。

四氯硅烷-CN

四氯硅烷-EN

展开更多折叠内容

有疑问？专业技术顾问为您解答

电子特气

砷烷

砷烷-CN

砷烷-EN

磷烷

磷烷-CN

磷烷-EN

硒化氢

硒化氢-CN

硒化氢-EN

锗烷

锗烷混气-CN

锗烷混气-EN

乙硼烷

乙硼烷-CN

乙硼烷-EN

甲硅烷

甲硅烷-CN

甲硅烷-EN

三氟化氮

三氟化氮-CN

三氟化氮-EN

三氯化硼

三氯化硼-CN

三氯化硼-EN

四氯硅烷

四氯硅烷-CN

四氯硅烷-EN

有疑问？
专业技术顾问为您解答